平行曝光机主要用于光刻胶曝光．本系统由光源部份(采用日本ORC或国产曝光头)、玻璃搬送架、菲林基板自动浮动装置、玻璃真空吸附平台、玻璃自动推定位装置、平台升降装置、光源快门控制系统等几部分组成，玻璃由搬送架进入曝光区域后对位、吸真空、曝光、卸玻璃等动作全部自动完成.

技术能数：

PASSLINE             ：900±25mm

流动方向             ：从左至右1台，从右至左1台（面对操作面）

基板尺寸             ：370×470mm（宽度方向为370mm）

基板厚度             ： 0.4～1.1mm

处理能力             ：18秒/片（80mj曝光时间4SEC）

外观                 ：SUS304镜面板及防紫外有机玻璃板

设备机构及性能：

曝光工作台：

曝光平台材质    ：硬铝合金，表面黑色氧化处理。

玻璃基板定位方式：自动PIN对位。

重复定位精度     ：±0.03mm

基板固定方式    ：真空吸着固定玻璃基板。

基板传送方式    ：托架搬运。

台面平面精度    ：±0.01mm。

工作台上下方式  :伺服电机+滚珠丝杠。

曝光间隙调整    :自动

不同厚度玻璃切换:自动调整平台上升高度

基板流向     ：面向操作面，从左至右（或从右至左）

铬版更换方式  ：手动更换